厂 商 武汉颐光科技有限公司
型 号 SE-VM-L
到货日期 2024年11月

一、椭偏仪（SE-VM-L）的主要特点

1. 高精度测量能力

- 一次性测量全穆勒矩阵16个元素，支持Psi/Delta、NCS、反射率/透射率、退偏指数等光谱分析。

- 膜厚重复精度优于0.005nm（100nm SiO₂/Si），折射率重复精度达0.0005（632.8nm）。

- 偏振精度：非对角穆勒矩阵元素误差≤±0.005，退偏指数误差≤±0.5%。

2. 灵活的光谱与光斑配置

- 光谱范围380-1000nm，分辨率<0.8nm（UV-VIS）。

- 支持大光斑（1-4mm）和微光斑（200μm）模式，可消除透明衬底背面反射。

3. 高效测量与操作

- 单点测量时间<15秒，入射角范围45-90°（5°步进）。

- 可视化调平系统，辅助样件对准与调平。

4. 先进技术与稳定系统

- 采用消色差双旋转补偿器（PCrSCrA）调制技术，光源为高性能进口器件。

- 样品台支持Φ200mm样件真空负压吸附固定，Z轴位移行程0-10mm。

5. 强大软件支持

- 分析软件支持多层（最多20层）各向同性/异性薄膜建模，含数百种材料数据库，兼容柯西、洛伦兹等振子模型。

- 终身免费软件升级与不限次数据建模分析服务。

6. 环境适应性

- 适应温度-10~50℃，湿度35%~60%，兼容标准实验室环境。

二、椭偏仪（SE-VM-L）的主要用途

1. 薄膜表征与分析*

- 测量单层至多层薄膜的厚度、折射率、消光系数等光学常数，适用于半导体、光学镀膜、光伏等领域。

2. 材料科学研究

- 分析各向同性/异性材料、多组分薄膜、等效介质模型，支持梯度折射率分布研究。

3. 工业质量控制

- 用于高精度膜厚监控、工艺优化，确保生产一致性（如SiO₂/Si标样检测）。

4. 多功能应用场景

- 兼容大尺寸样件（Φ200mm）和微区分析（200μm光斑），适用于透明/非透明衬底材料研究。

SE-VM-L椭偏仪以高精度、高效灵活的特点，广泛应用于材料科学、半导体工业及光学研发领域，为薄膜与材料的光学特性分析提供可靠技术支撑。

三、联系方式：
李佳 13958210148 lijia@nimte.ac.cn
四、实验室
科研楼 E717