1. 高精度测量能力 - 一次性测量全穆勒矩阵16个元素，支持Psi/Delta、NCS、反射率/透射率、退偏指数等光谱分析。 - 膜厚重复精度优于0.005nm（100nm SiO₂/Si），折射率重复精度达0.0005（632.8nm）。

全自动台阶仪（型号NS200）是一种高精度自动化测量设备，主要用于微观结构的形貌分析和台阶高度检测。

4200-SCS型半导体特性分析系统用于实验室级的器件直流参数测试、实时绘图与分析，具有高精度和亚fA级的分辨率。它提供了最先进的系统集成能力，包括完整的嵌入式PC机，Windows操作系统与大容量存储器。其自动记录、点击式接口加速并简化了获取数据的过程，这样用户可以更快地开始分析测试结果。其它一些特征使得应力测量功能能够满足各种可靠性测试的需求。

电化学 ECV主要用于半导体材料的研究及开发，其原理是使用电化学电容-电压法来测量半导体材料的掺杂浓度分布。此外，也是分析或发展半导体光-电化学湿法蚀刻(PEC Etching)很好的选择。 此设备可监控掺杂浓度、电学活性掺杂浓度、掺杂类型(N型或 P型)，可测量剖面深度，深度分辨率打到 1纳米水平，可分离多层薄膜的测量数据，可以分析晶圆形貌，并且制样方便，无须预先机械或蚀刻准备。